![]() |
![]() |
![]() |
|||||||||||||||||
Найден легкий способ выращивать нитрид бора
Тонкие слои нитрида бора могут найти применение в самых разных областях, к примеру, в гибкой электронике. Это возможно, благодаря тому, что пленки нитрида бора имеют отличные механические, термические и электронные свойства. Еще одна потенциально важная роль, «приготовленная» для нитрида бора самой природой – роль диэлектрической механической основы для графена в несколько атомов толщиной. Дело в том, что из всех материалов нитрид бора ближе всего по структуре кристаллической решетки к графену, соответственно, контакт с этим материалом не столь существенно изменяет характеристики двумерного листа атомов углерода. До сих пор нитрид бора не столь масштабно используется в науке и промышленности лишь потому, что не существовало доступных способов для выращивания этого материала в коммерческих масштабах. Кроме того, не до конца были понятны свойства этого материала. Но группа ученых из University of Texas (США) сделала еще один шаг в направлении более широкого применения нитрида бора. Ученые показали, что с применением новой методики производства можно контролировать количество слоев нитрида бора с атомарной точностью простой вариацией внешних условий в реакторе, где происходит химическое осаждение. Стоит отметить, что в своем эксперименте ученые выращивали тонкие пленки нитрида бора с помощью химического осаждения паров при низком давлении с применением диборана и газового аммиака, двух широко используемых в промышленности прекурсоров. Изменение характеристик конечного продукта осуществлялось вариацией таких параметров, как температура, время действия реагентов, а также парциального давления газов. По словам ученых, доказанная ими возможность контроля толщины нитрида бора с точностью до одного атомарного слоя означает, что уже в ближайшем будущем этот материал может найти широкое практическое применение. Кроме того, они считают, что опубликованная работа поможет лучше понять поверхностные химические явления, происходящие в процессе роста пленок нитрида бора при низком давлении. В ближайшем будущем команда планирует продолжить исследования пленок нитрида бора в различных условиях, на различных подложках и при использовании разных прекурсоров. Конечной целью этих исследований будут попытки интегрировать упомянутые пленки в различные электронные устройства. Кроме того, планируется более глубоко изучить сам материал: его структуру, оптические и электронные свойства. Подробные результаты работы ученых опубликованы в журнале ACS Nano.
Также по теме:
Источники: |
|
||||||||||||||||||
|
|